Deposition Research

Thin-film processes I've worked with — CVD, Sputter, and E-beam

Summary of Experiments

기간장소프로젝트명핵심 기술보기
2021신라대학교CMC 공정 연구CVD이동
2023고려대학교박막 스퍼터링Sputter이동
2024KICETAg DewettingE-beam이동

1. CVD 기반 CMC 공정 연구

Summary

Precursor–transport–reaction을 익힌 기초 박막 연구 경험

Method

• Hot-wall CVD • Precursor vaporization • N₂/Ar carrier gas • 450–600°C deposition

Results

• Film density 변화 측정 • Grain size → decomposition rate 상관성 확인

Interpretation

이 경험은 TFT, Passivation layer 공정 이해의 기반이 됨.

(여기에 이후에 그래프 또는 사진을 넣으세요)

2. Sputter 기반 박막 증착 연구

Summary

DC/RF plasma 기반 박막 형성 및 도핑/형광 특성 분석

Method

• Base pressure 10⁻⁶ torr • Ar plasma (3–5 mtorr) • 다양한 metal/oxide target 사용

Results

• Plasma power → film density 변화 • Deposition rate map

Interpretation

ITO·Ag·Al 박막 증착 이해에 직접적인 기반 제공.

(여기에 이후에 그래프 또는 사진을 넣으세요)

3. E-beam 기반 Ag Dewetting 박막 공정

Summary

Ag-TiO₂-Ag multilayer + 열처리에 의한 morphology control

Method

• E-beam deposition • Ag 10–20 nm • Annealing 200–500°C

Results

• Continuous → nanoparticle island 변화 • Anti-fogging coating 형성

Interpretation

삼성디스플레이 광학/열 관리 기술과 깊게 연결됨.

(여기에 이후에 그래프 또는 사진을 넣으세요)

Deposition → Display R&D Skill Map

  • CVD – TFT, Passivation, Encapsulation 박막과 연결
  • Sputter – ITO/Ag/Al/Mo 증착 기반
  • E-beam – 고순도 금속막 + optical layer 형성
  • Dewetting – µLED·nanopatterning 활용 가능
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